تهران- ایکسانیوز: مهدی کشمیری رئیس شهرک علمی تحقیقاتی اصفهان از دستیابی محققان این مرکز علمی به فناوری ایجاد پوشش‎های سطحی سخت با ساختار نانو کامپوزیت به روش رسوب فیزیکی بخار (PVD) خبر داد.

کشمیری با اعلام این خبر گفت: فناوری PVD به طور کلی شامل مجموعه تکنیک‌هایی است که به وسیله آن‌ها با تبخیر یک یا چند فلز در یک محفظه خلا و تبدیل این بخار فلزی به پلاسمای اکتیو فلزی و ترکیب این پلاسما با پلاسمای اکتیو غیر فلزی ناشی از یونیزاسیون همزمان، یک لایه نازک با خواص مطلوب بر روی قطعه کار رسوب داده می‌شود. وی افزود: بدیهی است خواص این لایه PVD تشکیل شده روی قطعه کار به ترکیب آن و تکنیک لایه نشانی بستگی دارد که این شرکت موفق شده با کنترل نسبت عناصر فلزی تبخیر شونده و کنترل شرایط رسوب؛ به فناوری رسوب پوشش‌های نانو کامپوزیت TiAlN-Si3N4 و TiC-DLC دست یابد.

رئیس این مرکز علمی و تحقیقاتی ادامه داد: در این فناوری از یکی از پیشرفته‌ترین روش‌های لایه نشانی با عنوان Cathodic Arc Deposition استفاده می‌شود که در آن به علت قابلیت دستیابی به درصد بالای یونیزاسیون ذرات و انرژی رسوب بالای ذرات و به علت قابلیت تبخیر کنترل شده چند عنصر به طور همزمان، علاوه بر ایجاد انواع پوشش‌های کریستالی با ساختار مونو بلوک، امکان دست یابی به ساختار نانو کامپوزیت نیز فراهم شده است

 وی همچنین ادامه داد : پوشش‌های نانو کامپوزیت از اوایل سال ۲۰۰۰ در کشورهای پیشرفته کاربرد وسیعی در کنترل خواص سطحی قطعات کاربردی در صنایع مختلف از جمله صنایع هوافضا و انرژی هسته‌ای داشته‌اند. وی بیان کرد: محققان قصد دارند با طراحی و تجهیز راکتور پوشش دهی، در جهت ایجاد پوشش‌های با ساختار نانو لایه نیز گام بردارند.

لازم به ذکر است که چنانچه فاز پراکنده مورد استفاده در کامپوزیت نانو ذره باشد، ماده ی ترکیبی، نانو کامپوزیت خواهد بود. انواع نانو کامپوزیت ها شامل نانو کامپوزیت های پایه پلیمری، نانو کامپوزیت های پایه سرامیکی و نانو کامپوزیت های پایه فلزی می باشند.